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300576
300576
| 電路板油墨 | 光刻膠 | 特種油墨 |
1.特別說明:
具體型號說明書及相關檢測報告請前往下載中心下載。
2.應用領域:
集成電路領域的具體應用包括：集成電路芯片制作（涉及金屬層、鈍化層、離子注入層的光刻）；集成電路先進封裝等。
3. 技術參數(shù):
集成電路用光刻膠主要技術參數(shù)：
集成電路用光刻膠系列主要包括： RD-4000、RD-6000等系列，不同系列光刻膠的主要技術參數(shù)如下：
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序號 |
產品序列 |
主要參數(shù) |
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1 |
RD-4000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)
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2 |
RD-6000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)
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1.特別說明:
具體型號說明書及相關檢測報告請前往下載中心下載。
2.應用領域:
半導體照明領域的具體應用包括：圖案化藍寶石襯底（PSS）制作；LED芯片制作等。
3. 技術參數(shù):
半導體照明用光刻膠主要技術參數(shù)：
半導體照明用光刻膠系列主要包括：RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列，不同系列光刻膠的主要技術參數(shù)如下：
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序號 |
產品序列 |
主要參數(shù) |
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1 |
RD-2000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<300；膜厚：1.0~3.5um；分辨率：0.8um(g-line)
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2 |
RD-4000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)
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3 |
RD-6000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)
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4 |
RD-NL700系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<500；膜厚：1.8~4.5um；倒梯形角度：45~80°；分辨率：1um(g+h+i曝光)
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